磁控濺射真空鍍膜機需要鍍膜的（de）被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。 基片（piàn）與（yǔ）靶材同在真空腔中。蒸發鍍（dù）膜一般是加熱靶材使表麵組（zǔ）分以原子團或離子形式被蒸發出來。並且沉降在基片表麵，通過成（chéng）膜過（guò）程（散點（diǎn）－島狀結構-迷走結構-層狀生（shēng）長（zhǎng））形成薄膜。 對於濺射類鍍（dù）膜，可以簡單理解（jiě）為利用電子或高能激光轟擊靶材，並使（shǐ）表麵組分（fèn）以原子團或離子形式被濺射出來（lái），並且最終（zhōng）沉積在基片表（biǎo）麵，經曆成膜過程，最（zuì）終形成薄膜。

使用步驟：
電（diàn）控櫃操作
1、開水泵、氣源。
2、開（kāi）總電源。
3、開維持泵、真空計電（diàn）源，真（zhēn）空計檔位置V1位置（zhì），等待其值小於10後，再進入下一步操作。約需5分鍾。
4、開（kāi）機（jī）械泵、預抽，開渦輪分子（zǐ）泵電（diàn）源、並啟動，真空計開關換到V2位置，抽到小於2為止，約需20分鍾。
5、觀察渦輪分子（zǐ）泵讀數（shù）到達250以後，關預抽，開前級泵和高真空閥繼續抽真空，抽（chōu）真空到（dào）達一定程度後才能開右邊的高真空表頭，觀察真（zhēn）空度。真空到（dào）達（dá）2×10-3以後才（cái）能打開（kāi）電子槍電源。

DEF-6B操作：
1. 總電源。
2. 同時開電子槍控製Ⅰ和電子槍（qiāng）控製Ⅱ電源（yuán）：按電子槍（qiāng）控製Ⅰ電源、延時開關，延時、電源及保護燈亮（liàng），三（sān）分鍾後延時及保護（hù）燈滅，若後門未（wèi）關好或水流繼電器有（yǒu）故障，保護燈會（huì）常亮。
3. 開高壓，高壓會達到10KV以上，調節束流可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲（sī）電流1.2A，偏轉電流在1~1.7之間擺動（dòng）。

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