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射頻磁控濺射

作(zuò)者: 來源: 日期:2021-04-26 8:57:00 人氣:2340

用來進行介(jiè)質膜的濺射,如在玻璃上鍍ITO膜之前需鍍上一層SiO2擴散隔(gé)離層,該SiO2膜就是采用射頻濺射(shè)。 

通(tōng)常在濺射過程中輝光放電中的離子撞擊到陰極時,會與陰極的電子(zǐ)中和,是(shì)的濺射現象可(kě)以繼續進行。

但若靶材本身不導電的話,離子撞擊到靶材上沒(méi)有(yǒu)電子中和,

正電荷一直累積,使與後來(lái)的離子排斥,這會造成(chéng)取代直流電(diàn)源,使(shǐ)可解決此(cǐ)離子撞(zhuàng)擊(jī)現象的停頓。

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