微信掃一掃 關注柚子影视:精彩影视作品尽在柚子影视平台最新動態！磁控濺射鍍膜是現代（dài）工業（yè）中不可缺少的（de）技術之一，磁控濺射鍍膜技術正廣泛應用於透明導（dǎo）電膜、光學膜、超硬膜、
抗腐蝕膜、磁性膜、增（zēng）透膜、減反膜以及各種裝飾膜，在國（guó）防和國民經濟生（shēng）產中的作用和地位日益強大。
解決這些實際問題的（de）方法是對（duì）涉（shè）及濺射沉積過程的全部因素（sù）進行整體的優（yōu）化設計，建立一個濺射鍍膜的綜合設計係統。
薄膜厚度均勻性是檢驗濺射沉積過程的最重要參數之一，因此對膜厚均勻性綜合設計的研究具有重要的理論和應用價值。
磁控濺射技術發展過程中各項技術的突破（pò）一般集中（zhōng）在等離子體的產生以及對等離（lí）子體進行的控製等方麵。
通過對電（diàn）磁場、溫度場和空間不同種（zhǒng）類粒子分布參數的控製（zhì），使膜層質量和屬性滿足各行業的要求。
膜厚均勻性與磁控濺射靶的工作狀態息息（xī）相（xiàng）關，如（rú）靶的刻蝕狀態，靶的電磁場設計等，
因此（cǐ），為保證膜厚均勻性，國外（wài）的薄膜製備公司或鍍膜設備製造公司都有各自的關於鍍膜（mó）設備（bèi）(包（bāo）括核心部件“靶”)的整套設計方案（àn）。