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真空蒸鍍(dù)之(zhī)工藝對比

作者: 來源: 日期:2020-09-02 11:14:18 人氣:181468
1. 電阻蒸發源蒸鍍發  


A. 加熱:高熔點金屬做成適當形狀(zhuàng)蒸發(fā)源,電流通過直接加熱。 


B. 優點:結(jié)構簡單、造價便宜、使用可靠


C. 缺點:所能到(dào)到的最高溫度有限(xiàn),加熱器(qì)壽命較短


D. 適合:熔點不太高,尤其對膜層質量要求不大高的大批量生產。 


 2. 電(diàn)子束(shù)蒸發源蒸鍍發 


A. 蒸發材料放入冷水鉗鍋中,利用電子束加(jiā)熱


B. 優點:獲得更大能量密度,使高熔點材料蒸發且(qiě)速度快,膜的純度較高,熱效率高。


C. 分類:環形(xíng)槍,直槍,e型(xíng)槍和空心陰極槍等(děng)幾(jǐ)種。


D. 適(shì)合:高熔點,純度要求高的材料。
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