真空鍍膜（mó）技術是一種新穎（yǐng）的材料合成與加工技術（shù），是表麵工程技術領域的重（chóng）要組成部分；

起源於20世紀30年代（dài），直到80年（nián）代才形（xíng）成工業化大規模生產，廣泛應用於電子、裝潢裝飾、通訊、照明等工業領域。

是在真空環境下，金屬或金屬氧化物變成（chéng）氣態原子或分（fèn）子，沉積在金屬或非金屬表麵而形成。 

被譽為最具發展前（qián）途的重要技術之一，並在高技術產業化的發展中展（zhǎn）現出誘人的（de）市場前景。

真空的作用

1. 減少（shǎo）蒸發分（fèn）子跟（gēn）殘餘（yú）氣體分子的碰撞

2. 抑製它們之間的反應

優勢 

低耗能、無毒、無廢液、汙染小（xiǎo）、成本低、裝飾效果好、金屬感強。