膜厚的量測方法大致上可分為原位量測、離位量測兩類 

原（yuán）位星測係指鍍膜進行中（zhōng）量測，普遍使（shǐ）用在物理氣相沉積，如微天平、光學、電阻量（liàng）測。

離位量測係指鍍膜完成後量（liàng）測，對電鍍膜的行使較（jiào）為普遍，具有了解電鍍效率的目的，如質量、剖麵計、掃描式電子顯微鏡。