真空鍍膜設備多（duō）弧離子（zǐ）鍍膜上的創新方法，所謂多弧離子（zǐ）鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板於室（shì）內，

真空鍍膜機（jī）多弧離子鍍膜采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發或（huò）升華，並飛行濺射到被鍍基板表麵凝聚成膜的工藝。

多弧離子（zǐ）鍍膜的方法，在條件下成（chéng）膜有很多優（yōu）點，可（kě）減少蒸發材料的原子、分子在飛向基板過程中於分（fèn）子的碰（pèng）撞，

減少氣（qì）體中（zhōng）的活性分子和（hé）蒸發源材料間的化學反應（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分子進（jìn）入薄膜（mó）中成為雜質的量，從而提供（gòng）膜層的致密度、純度、沉積速（sù）率和與（yǔ）基板（bǎn）的（de）附著力。

真空鍍膜設備多弧離子鍍膜工藝不僅避免了傳統表麵（miàn）處理的不足（zú），且各項技術（shù）指標都優於傳統工藝（yì），在五金、機械（xiè）、化工、模（mó）具、電子、儀（yí）器等領域有廣泛應（yīng）用。

催化液和（hé）傳統處理工藝相（xiàng）比，在（zài）技術上有哪些創新？

1、多（duō）弧離子鍍膜不用電（diàn）、降（jiàng）低了成本、成本僅為多弧離子鍍膜鎳的二分之一，真空鍍（dù）膜機多弧離子鍍（dù）膜鉻的（de）三（sān）分之（zhī）一，不鏽鋼的四分（fèn）之一，可反複利（lì）用，大大降低（dī）了成本。