無（wú）論監控儀精度怎（zěn）樣，它也隻能（néng）控製真空室裏單點位（wèi）置的膜厚，一般來講是工件架的中間位置。如果（guǒ）真空電鍍設備此位置的膜（mó）厚不是絕對（duì）均勻的，那麽遠離中心位（wèi）置的基片就無法得到均勻（yún）的厚度。雖然屏（píng）蔽罩（zhào）能消除表現為（wéi）長期的不均勻性（xìng），但有些膜厚度（dù）的變（biàn）化是由蒸發源（yuán）的不穩定或膜材的不同表（biǎo）現而引起的，所以幾乎（hū）是不可能消除的，但對真空室的結構和蒸發源的恰當（dāng）選擇可以使這些影響（xiǎng）最（zuì）小（xiǎo）化。
　　在過去幾年中，越來越多的用（yòng）戶要求鍍膜係統製造廠家提供高性能的小規格、簡便型光學鍍膜係統，同時，用（yòng）戶對性能的要求（qiú）不僅沒有降低，反而有所（suǒ）提高，特別是（shì）在薄膜密（mì）度和保證吸水後光譜變化最小化等方麵。
　　現在，係統（tǒng）的平均尺寸規格已經在降低，而應用小規格設（shè）備進行（háng）光學（xué）鍍（dù）膜的生產也已經轉變成為純技術問題。因此（cǐ），選用現代化光（guāng）學鍍（dù）膜係（xì）統的關鍵取決於對以（yǐ）下（xià）因素的認真考慮：對鍍膜產品的預期性能，基片的尺寸大小（xiǎo）和物理特性以及保證高度一致性工藝所必需的所有技術因素。

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