物理氣相沉積介紹之真空卷繞（rào）鍍膜技術：
        真空卷繞鍍膜(卷對卷)是在真（zhēn）空下應用不同方法在柔性基體上實現連續鍍膜的一種技術。它涵蓋真空獲得（dé）、機（jī）電控製、高精傳動和表麵分析（xī）等多方麵內容。其重（chóng）點是，在（zài）保證（zhèng）鍍（dù）膜質量前提下提高（gāo）卷繞速率、控（kòng）製鍍膜穩定性及（jí）實施在線（xiàn）監控。卷對卷技術成（chéng）本低（dī）、易操作、與柔性基底相容、生產率高及可連（lián）續鍍多層（céng）膜等優點。第（dì）一台真空蒸發卷繞鍍膜機1935年製（zhì）成，現可鍍幅寬由500至（zhì）2500mm。卷對卷技術應用由包裝和（hé）裝飾用膜，近年逐漸（jiàn）擴大至（zhì）激光防偽膜、導電等（děng）功能薄膜方（fāng）麵，是未來柔性電子等行業的主流（liú）技術之一（yī）。
        真空（kōng）卷（juàn）繞鍍膜係（xì）統按結構（gòu）可分為單室、雙室和（hé）多室真空卷繞係（xì）統，後兩者（zhě）可解決開卷放氣問題並分（fèn）別控製卷繞和鍍膜室（shì）各自真空度。卷（juàn）繞張力控製分錐度、間接和直接控製模型（xíng），錐度（dù）控製模型可解決薄膜褶皺和徑（jìng）向力（lì）分布不均的問題；間接張（zhāng）力控製無需（xū）傳感器，可用內置張力控製模塊的矢量變頻器代替；直接張力（lì）控製通過張力傳感器精確測量張力值，但需慣性矩和角速度等多種參數。真空卷繞鍍膜主要有真空蒸發、磁控濺射等方式，可用於製（zhì）備新型高折射率薄膜、石墨烯等納米材（cái）料和柔性太陽能電池等半（bàn）導體器件。針對真空卷（juàn）繞（rào）鍍膜技術研究現狀及向產業（yè）化過渡存在的問題，最後作了簡要分析與展望（wàng）。
        真空卷（juàn）對卷設備由抽真空、卷（juàn）繞（rào）、鍍膜和電氣控製（zhì）等（děng）係統組成。真空卷繞鍍膜設（shè）備根據真空室有無擋板，可分單室、雙室和（hé）多室結構。單室的收放卷輥和鍍膜輥在同一室中，結構簡單但（dàn）開卷時放氣會（huì）汙染真空環（huán）境。雙室結（jié）構將係統用擋板隔成卷繞和鍍膜室，卷輥與擋板間隙約1.5mm，避免了類（lèi）似開卷放氣問題。多室常用於製（zhì）備複合薄膜，在雙室基礎上將相鄰鍍膜區用擋板隔開避免幹擾。如Krebs等將Skultuna FlexiblesAB的開普頓擋板固定於兩磁控濺射靶間，板兩側塗覆50μm的銅層。分隔擋板與真空室壁狹縫越小越好。據鍍膜時輥筒（tǒng）作用（yòng）分為單主輥和多主輥（gǔn）卷繞（rào）鍍膜機。據電機個數，則可（kě）分為兩電機、三電機和四電機驅動（dòng）係統。

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