GSF係列高精密電子束蒸發(fā)光學真空鍍膜機

日期:2016-01-13 10:18:51 人氣:26170
GSF係列高精密電子束蒸發光學真(zhēn)空鍍膜機

工作原理

GSF高精密電子束蒸發光學真空鍍膜(mó)機的工作原(yuán)理是將膜材放入水冷銅(tóng)坩堝(guō)中,直接利用電子束加熱,使膜材中的原子(zǐ)或分子從(cóng)表麵汽化逸出後入射到基片表麵凝結成膜。電子束蒸發比一般電阻加熱蒸發熱效率高、束流密度大、蒸發速度快,製成的薄膜純度高。

應用範圍

光學鍍膜設備可鍍製層數較多的短波通、長波通、增透膜(mó)、反射膜、濾光膜、分光(guāng)膜、帶通(tōng)膜、介質膜、高反膜、彩色反射膜等各種膜係,能夠實現0-90層膜的膜係鍍膜,也能滿足如汽車反光玻(bō)璃、望遠鏡、眼鏡片、光學鏡頭、冷光杯等產品的鍍膜要求。配置不(bú)同的蒸發源、電子槍和(hé)離子源及膜厚(hòu)儀(yí)可鍍(dù)多(duō)種膜係,對(duì)金屬、氧化物、化合(hé)物及其他高熔點膜材皆可蒸鍍。

產品特(tè)點

1)、高精密光學鍍膜機配備有石英晶體膜厚儀、光(guāng)學膜厚自動控製係統,采用PLC與工業電腦配合自主研發的PY3100係統聯合實現對整個工作過程的全自(zì)動控製,可以實現無人值守(shǒu),從而提高了工作效率和保證產品質量的一(yī)致性和穩定性。
2)、大抽速真空係統加配深冷裝置,優秀的動態(tài)真空能力,為複雜的(de)光學膜係製備提供了必(bì)要的真空條件保障。
3)、蒸發分布穩定、性能可靠(kào)的E型電子槍,優化設計的蒸發源與(yǔ)工件架之間的位置(zhì)關係,為精密膜係的實現調(diào)工了膜(mó)料蒸發(fā)分布方(fāng)麵的保(bǎo)障。
4)、平穩而高速旋轉的工件架轉動係(xì)統,使工件架內外圈產品光譜曲線更趨於一致(zhì)。
5)、適用於光學(xué)領域行業,大規(guī)模工(gōng)業生產高端要求的廠商使用。

技術參數表

GSF高精(jīng)密電(diàn)子束蒸發光學真空鍍(dù)膜(mó)機(jī)
型號GSF-800GSF-1200GSF-1400GSF-1600GSFW-1000GSFW-1200GSFW-1600
真空室尺寸 Φ800×1000MMΦ1200×1400MMΦ1400×1600MMΦ1600×1800MMΦ1000×1100MMΦ1200×1400MMΦ1600×1800MM
真空(kōng)機組KT400擴散泵機組KT630擴散泵機組雙KT630擴散泵(bèng)機組雙KT630擴散泵機組KT500擴散泵(bèng)機組KT630擴散泵機組雙(shuāng)KT630擴散泵(bèng)機組
鍍膜(mó)係統電子(zǐ)槍蒸發源、鍍膜輔助(zhù)離子專用電源(yuán)或霍爾(ěr)離子源
充氣係(xì)統壓強控(kòng)製儀
控製方式半自動或全自動
膜厚監控係統石英晶體膜厚(hòu)監控係統、光學膜厚監控係統
抽(chōu)氣速率5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min
極限(xiàn)真空3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa
備注以上設備參數僅做參考,具體均按客戶實際工藝要求設計訂做
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