HL係列多弧離子真空鍍膜機

日期:2016-01-13 10:01:54 人氣:105769
HL係列多弧離子真空鍍膜機

工作原理

HL係列(liè)多弧離子真空鍍膜機工作原理是把真空弧光放電技(jì)術用於蒸發源的技術,即在真空環境(jìng)下引(yǐn)燃蒸發源(陰極),與陽極之間形成自持弧光(guāng)放電(diàn),既從陰極弧光輝點放出陰極物質的離子。由於電流局部的集中,產生的焦耳(ěr)熱使陰極材料局部的(de)爆發性地等離子化,在(zài)工件偏壓(yā)的作用下與反應(yīng)氣體化合,而沉積在工件表麵上形成被鍍的膜層。

應用範圍

1、鍾表行(háng)業(表帶、表殼、表盤等)
2、五金行業(衛生潔(jié)具、門把手、拉手、門鎖等)
3、建築行業(不鏽鋼板、樓梯扶手、立柱等)
4、精密模具業(衝棒標(biāo)準件模具、成型模具等)
5、工具行業(鑽頭、硬質合金、銑(xǐ)刀(dāo)、拉刀、刀頭)
6、汽車(chē)工業(活(huó)塞、活塞環、合金輪轂等)以及(jí)鋼(gāng)筆、眼鏡等等,使其表麵得到既美觀又耐磨(mó)的功(gōng)能性磨層。主要鍍製的膜層有:離(lí)子金、離子(zǐ)銀、氮化鈦膜、碳化鈦膜、氮化鋯膜、鈦鋁合金膜、氮化鉻以及RP鍍等超硬功能性金屬膜,經離子鍍(dù)膜加工後的工件,可以提高硬度、耐磨度,抗腐蝕和美化的作用。 
7、有色(sè)金屬製品(如銅、鋁、鋅、鎂等)不需水鍍直接鍍製膜(mó)層。

產品特點

1、裝備低溫離子輔助源,無需加熱直接(jiē)常溫冷鍍成(chéng)膜,節能(néng)省電,提(tí)高(gāo)產能。
2、沉積(jī)速率高(gāo),鍍膜速度(dù)快,覆(fù)蓋領域(yù)廣(guǎng),可以在多(duō)種產品上鍍製各類裝飾膜或功能膜,是中、高端產品大(dà)量生產(chǎn)的適合設備。

技術參數表

HL係列多弧離(lí)子真空鍍膜機     
型號HL-600HL-800HL-1000HL-1200HL-1400HL-1500HL-1600
真空室尺寸 Φ600×800MMΦ800×1000MMΦ1000×1200MMΦ1200×1400MMΦ1400×1600MMΦ1500×1500MMΦ1600×1800MM
真空機組KT400擴散泵機組KT500擴散泵機組KT500擴散泵機組KT630擴散泵機組雙KT630擴散泵機組雙KT630擴散泵機組(zǔ)雙KT630擴散泵機組
鍍膜係統專用多弧鍍膜電(diàn)源+多功能孿(luán)生磁環弧靶+柱形弧靶(可選配)
輔助鍍膜係統低溫離子輔(fǔ)助源(除工(gōng)具(jù)鍍外無需加(jiā)溫係(xì)統)
充(chōng)氣係統質量流量計質量流量計質量流量計質量(liàng)流(liú)量計質量流量計質量流量(liàng)計質量流量計
控製方式手動或(huò)全自動手動(dòng)或全自動(dòng)手動或全自動手動或全自動(dòng)手動或全自動(dòng)手動或全自(zì)動手動或全自動
抽氣速率5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min
極限真空(kōng)5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa
備注以上設備參數僅(jǐn)做參考,具體均按客戶實際工藝要求設計訂做
上一(yī)個:沒(méi)有資料
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