如何掌控真空（kōng）鍍膜的均（jun1）勻性
我們先來認識下怎麽調試鍍膜機，因為掌握調試鍍膜機是使用鍍膜（mó）機的（de）關鍵怎麽（me）調試鍍膜機
1、測試設備的抽真空速度，在測試過程中檢查漏氣情況與各真空泵的性能；
2、測試設備的密封性能（néng），就是抽到極（jí）限後保壓1小（xiǎo）時看壓降是否達標，同時（shí）排除細（xì）小的漏孔；
3、產品試作，檢驗其他的性能，比如傳動、加熱、絕（jué）緣等等；
4、如果有工藝（yì）保證的話就繼續（xù）打（dǎ）樣並作測試。
5、所有的測試應作（zuò）記錄，並（bìng）有記錄人簽字以及有使用（yòng）部門或工程部門的人確認簽（qiān）字

怎麽掌控真空鍍（dù）膜的均勻性？
由於車燈鍍膜機原理的（de）不同分為很多種類，僅僅因為都（dōu）需要高真空度而擁有統一名稱。所以對於不同原理的真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相同。並且均（jun1）勻性這個概念本身也會隨著鍍膜尺度（dù）和薄膜成分而有著不同的意義，下麵分別說一下：

均勻性主（zhǔ）要體現在3方麵：
1、厚度上的均勻（yún）性，也可以理解為粗糙度（dù），在光學薄膜的尺度上看（也就是1/10波（bō）長（zhǎng）作（zuò）為單位（wèi），約為100A），真空鍍膜的均勻性已經相當好，可以輕鬆將粗糙度控製（zhì）在可見光波長的1/10範（fàn）圍內，也（yě）就是說對於多弧離子鍍膜機的光學特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。但是如果是指原子（zǐ）層（céng）尺度上的均勻度（dù），也就是說要實現10A甚至1A的表麵平整（zhěng），是現在真空鍍膜中主（zhǔ）要的技術（shù）含量與技術瓶頸所在。
2、化學組分上的均勻性：就是說（shuō）在薄膜中，化合物的原子組分會由於尺度過小而很容易的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果（guǒ）濺控濺射鍍膜機（jī）過程不科學，那麽實際表麵的組分並不是SiTiO3，而可能（néng）是其他的比例，鍍的膜並（bìng）非是想（xiǎng）要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜（mó）的技（jì）術含量所在。
3、晶格有序度的均勻性：這決定（dìng）了薄膜是單晶（jīng），多晶，非晶，是真空鍍膜技術（shù）中的熱點問題。 

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