如（rú）何掌控真（zhēn）空鍍膜的均勻性（xìng）
我們先來認（rèn）識下（xià）怎麽（me）調試鍍膜機，因為（wéi）掌握調試鍍膜機是使用鍍膜機的關鍵怎麽調（diào）試鍍膜機
1、測（cè）試設備的抽真空速度，在（zài）測試（shì）過（guò）程（chéng）中檢查漏（lòu）氣情況（kuàng）與各真空泵的性能；
2、測試設備的密封性能，就是抽到極限後（hòu）保壓1小時看壓降是否達標，同時排除細小的漏（lòu）孔；
3、產品試作，檢（jiǎn）驗其他的性能，比如傳動、加熱、絕緣等等；
4、如（rú）果有工藝保證的話就繼續打樣並作測試。
5、所有的測試應（yīng）作記錄，並有（yǒu）記錄人簽字以及有使用部門或工程部（bù）門的人確認簽字

怎麽掌控真空鍍膜的均（jun1）勻（yún）性？
由於車燈鍍膜機原理的不同分（fèn）為（wéi）很多種類，僅僅因為都需要高真空度而擁有統一名稱。所以對於不同原理的（de）真空鍍膜，影響均勻性的因素也不（bú）盡相同。並且均勻性這個概念本身也會隨著鍍膜尺度（dù）和薄膜成分而有著不同的意義，下麵分別說一下：

均勻性主要體現在3方麵：
1、厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙（cāo）度，在光學薄（báo）膜的尺度上（shàng）看（也就是1/10波長作為單位，約（yuē）為100A），真（zhēn）空鍍膜的（de）均（jun1）勻性已經相當好，可以輕鬆將粗糙度控製在可見光波長的1/10範圍內，也就是說對於多弧離子鍍膜機的光學特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。但是如果是指原子層尺（chǐ）度上的均勻（yún）度，也就是說要實現10A甚至1A的表麵平整，是現在真空鍍膜中主要（yào）的技術（shù）含量與技術瓶頸所在。
2、化學組分上的均勻性：就是（shì）說在薄膜中，化合物的原子組分會由於尺度過小而很容易（yì）的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜（mó），如果濺控濺射鍍膜（mó）機過（guò）程不科學，那麽實際表麵（miàn）的組分並不（bú）是SiTiO3，而可（kě）能是其（qí）他的比例，鍍的膜並非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術含量所（suǒ）在（zài）。
3、晶格有序度的均勻（yún）性：這決定了薄膜是單晶，多（duō）晶，非晶，是真（zhēn）空（kōng）鍍膜（mó）技術中的熱（rè）點問題。 

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